ASML ove godine isporučuje prvi high-NA EUV litografski stroj
Napredak EUV litografske tehnologije prilično je težak, a ASML, predvodnik litografskih strojeva bori se i malo po malo poboljšava.
Sada je najavio o da će do kraja ove godine isporučiti prvi EUV stroj za ekstremnu ultraljubičastu litografiju koji podržava visoku NA (numeričku aperturu), model “Twinscan EXE:5000”. Pomalo je poput eksperimentalne platforme za proizvođače čipova da nauče kako koristiti high-NA EUV tehnologiju. Sljedeća generacija EXE:5200, za koju se očekuje da će biti isporučena 2025., može podržati masovnu proizvodnju velikih razmjera.
Što je NA numerička apertura?
To je važan pokazatelj optičkog sustava litografskog stroja, koji izravno određuje stvarnu rezoluciju litografije i najviši mogući procesni čvor. ASML trenutno najnapredniji EUV litografski strojevi su NEX:3400C i NEX:3400D. Oni mogu proizvoditi čipove s razmakom između “metala” od 33 do 38 nm. Međutim, nakon što se razmak smanji na manje od 30 nm, odnosno, odgovarajući procesni čvor prijeđe 5 nm, ova razlučivost nije dovoljna.
EUV dvostruka ekspozicija i/ili tehnologija oblikovanja uzorka mogu se koristiti samo kao pomoć, što će ne samo uvelike povećati troškove i također će smanjiti stopu prinosa. Stoga je postao potreban veći NA. Nova generacija EXE:5000 može postići 0,55 NA, a rezolucija litografije također će biti smanjena na 8 nm.
NVIDIA, ASML, TSMC i Synopsis udružuju snage za ubrzanje dizajna i proizvodnju čipova
SAD želi da ASML blokira izvoz svih litografskih strojeva u Kinu
Očekuje se da će Intel biti prvi kupac high-NA EUV litografskih strojeva i možda će ih predstaviti kasnije u 18A čvoru. TSMC i Samsung planiraju uvesti u proizvodnju 2nm procese krajem 2025., a mogli bi također koristiti EUV litografske strojeve s visokom NA. Što se tiče cijene ovog naprednog stroja za litografiju, nema službenih podataka. Različita izvješća procjenjuju da je trošak 300-400 milijuna američkih dolara.
