Intel planira nova ulaganja

·

 

Intel je izvijestio da u svoju tvornicu Fab 11X u gradu Rio Rancho u Novom Meksiku namjerava investirati od 1 do 1,5 milijardi USD za reorganizaciju proizvodnje, nakon čega će se u tvornici moći proizvoditi čipovi pomoću Intelove revolucionarne 45-nanometarske proizvodne tehnologije. Fab 11X bit će četvrta Intelova tvornica koja će upotrebljavati taj postupak. Početak proizvodnje pomoću 45-nm tehnologije u tvornici Fab 11X planiran je za drugu polovicu iduće godine.

Intel je prva tvrtka u svijetu koja je napravila jedan od najvećih pomaka u razvoju temeljne konstrukcije tranzistora te u svojem 45-nanometarskom proizvodnom postupku namjerava upotrijebiti inovativnu kombinaciju novih materijala, koji znatno smanjuju gubitke električne energije tranzistora i povećavaju njihovu učinkovitost. Intel će ove godine početi proizvodnju pomoću proizvodnog procesa u kojem će upotrijebiti novi dielektrički materijal za izolirajući element baze tranzistora nazvan “high-k” i novu kombinaciju metala za elektrode emitera i kolektora.
Prvim proizvodima proizvedenima pomoću 45-nanometarske tehnologije moći će se pohvaliti razvojni pogon D1D u Oregonu. Intel trenutno gradi još dvije tvornice, u kojima će se koristiti isti proizvodni postupak. Investicija vrijedna tri milijarde USD namijenjena je gradnji tvornice Fab 32 u Chandleru u Arizoni, koja će započeti proizvodnju krajem ove godine, a tvornica Fab 28 u Kiryat Gatu u Izraelu, vrijedna 3,5 milijardi USD, u prvoj polovici iduće godine.